TEOS 개념 Step by Step 1. 우선 SiO2는 무엇일까? SiO2는 절연성, 저항성이 좋음 이러한 특성 때문에 반도체 소자에서 실리콘-메탈 절연 (ILD, Inter Layer Dielectric), 메탈-메탈 절연 (IMD, Inter Metal Dielectric), Passivation 막으로 사용 저런 막들은 (1) 확산 공정에서 보호막, (2) 표면 보호 및 안정화, (3) 전기적 절연 및 유전, (4) 소자 간 분리, 표면 불순물 제거를 위해 사용 2. 그럼 SiO2는 어떻게 만드는데? 보통 Oxidation이나 CVD로 SiO2 막질을 만드는데, 막질을 만들 때 사용되는 재료인 프리커서는 3가지 정도가 있음 LPCVD 기준으로 설명하면 다음과 같음 (1) Silane (SiH4)..
